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25年03月22日河北配置安捷伦ICPMS 7900S+氩氧/氢气碰撞装置/有机进样适用于半导体材料分析

发布时间:2025-3-25

合作伙伴:河北某半导体材料公司

仪器类型:电感耦合等离子体质谱仪

品牌:安捷伦

型号:ICPMS 7900S

2025年03月22日,河北某半导体材料公司购买我司安捷伦电感耦合等离子体质谱仪ICPMS 7900厂,配置氩氧装置,氢气碰撞装置,有机进样系统,全新铂金锥,是高配中高配,安装调试培训完毕,感谢客户的支持与认可


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安捷伦 ICP-MS 7900S 是一款高性能的单四极杆电感耦合等离子体质谱仪,特别适用于半导体材料分析等高要求的应用场景。

仪器特点

高基质耐受性:7900S 具有出色的基质耐受能力,其超稳定的等离子体和可选的超高基质进样系统(UHMI)可处理高达 25% 总溶解固体(TDS)含量的样品。

氦碰撞模式:配备高效的氦碰撞模式(碍贰顿),能够有效消除多原子离子干扰,从而提高分析的准确性和灵敏度。

宽动态范围:具备 11 个数量级的线性动态范围(0.1-10×10^10 cps),可在同一次运行中同时测定痕量与常量元素。

快速信号采集:最短驻留时间可达 0.1 ms,支持单纳米颗粒(spICP-MS)分析。

灵活的配置:可轻松连接到多种外围设备,如激光剥蚀系统、有机溶剂引入系统等。


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配置选项

氩氧装置:可用于等离子体气、辅助气和雾化气等,确保等离子体的稳定运行。

氢气碰撞装置:氢气可作为碰撞/反应池气体,用于进一步消除干扰,提高特定元素的检测灵敏度。

有机进样系统:适用于有机溶剂样品的分析,可有效减少样品引入过程中的损失和污染。


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半导体材料分析的应用优势

高灵敏度:7900S 在整个质量数范围内具有出色的灵敏度,能够检测到极低浓度的杂质元素。

快速分析:快速信号采集和高效的碰撞/反应池技术,使得分析速度更快,适合高通量的半导体材料检测。

高纯度化学品分析:结合 UHMI 和氦碰撞模式,能够实现高纯度加工化学品的超痕量分析。



典型应用

半导体材料中的杂质检测:能够检测到半导体材料中痕量的金属杂质,如铁、铜、钠等。

高纯度化学品分析:适用于分析用于半导体制造的高纯度化学品,确保其纯度符合要求。

纳米颗粒分析:可用于检测半导体材料中的纳米颗粒,支持单纳米颗粒(蝉辫滨颁笔-惭厂)分析。




安捷伦 ICP-MS 7900S 的这些特点和配置使其成为半导体材料分析的理想选择。如果您有更多具体需求或问题,可以参考安捷伦文档或联系谱标技术支持获取进一步帮助。


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