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合作伙伴：半导体公司

仪器类型：电感耦合等离子体质谱仪

品牌：安捷伦

型号：ICP-MS-MS 8900

2024年8月30日，国内有名半导体公司购买我司的安捷伦电感耦合等离子体质谱仪 ICP-MS-MS 8900， 用于水基体，有机试剂，高硅，高氟样品超痕量元素分析。工程师使用经验证过的氢气原位质量法，氧气质量转移，氨氦，高氦等多种模式解决客户的应用问题。

在反应池中，氢气 (H2 ) 和氧气 (O2 )常被用作反应气。

分析物或干扰物在反应池中与某一反应气发生反应，生成一个新质量数的产物离子，通过这种质量转移或者原位质量的方法，避开原质量数的干扰。针对滨颁笔-惭厂开发的碰撞/反应池，能够通过化学反应去除特定干扰，解决分析中的难题。

氧气质量转移?是一个涉及氧气从气相传递到液相的过程，这个过程既是一个传递过程，也是一个物质扩散过程。氧气质量转移的效率受到多种因素的影响，包括污水水质、水温、氧的分压以及曝气装置的安装深度等。

Agilent 8900 ICP-MS/MS 比单四极杆 ICP-MS 提供了更高的灵敏度、更低的背景和更出色的干扰物质控制。这使得监测更多数量的低浓度污染物元素成为可能，包括 Si、P、S 和 Cl 等难以分析的元素，并支持半导体行业推动更小尺寸器件架构、更高产量和更高器件性能的发展。

应用场景分析

1.水基体样品分析: 在半导体制造过程中，水基体样品如超纯水(UPW)的质量对产物质量有着至关重要的影响。ICP-MS-MS 8900 能够准确测量UPW中的超痕量钾、钙、铁、镍等元素，确保水质符合生产要求。

2.有机试剂样品分析: 半导体制造过程中常常需要使用各种有机试剂。这些试剂中可能含有微量的金属元素或其他杂质，对产物质量产生不利影响。ICP-MS-MS 8900能够检测这些有机试剂中的超痕量元素，确保试剂的纯度。

3.高硅样品分析: 半导体材料如硅片在制造过程中需要严格控制其表面的金属元素含量。ICP-MS-MS 8900的高灵敏度和低检测限使得其能够准确测量硅片表面的超痕量元素，如磷、钛等。同时，其强大的干扰控制能力能够消除硅基质对分析结果的干扰。

4.高氟样品分析: 在某些特定的半导体制造过程中，可能需要使用含氟的化学品。ICP-MS-MS 8900能够检测这些高氟样品中的超痕量元素，确保产物的质量和性能不受影响。

综合应用分析，我们给安捷伦电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS-MS8900 配备了氢氟酸进样能力(通过耐腐蚀部件实现)、有机进样系统和水基体进样系统，以满足半导体行业及其他领域对复杂样品中超痕量元素分析的需求。

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